引起電鍍故障的原因有很多種，電鍍雜質(zhì)是其中一種，那么，面對(duì)雜質(zhì)引起的故障，該怎么解決呢？有哪些解決方案呢？我們不妨進(jìn)來(lái)了解一下。下文給大家?guī)?lái)7種解決方案。

在處理電鍍故障時(shí)，首先要找到電鍍故障的真正原因，確定處理方法，否則盲目地處理鍍液，不僅會(huì)造成損失，有時(shí)還會(huì)產(chǎn)生其他的故障。若故障的原因是鍍液中的某些雜質(zhì)引起的，選擇[敏感詞]的方法凈化鍍液是非常重要的，不同的鍍液或不同的雜質(zhì)，常常需要用不同的方法，有時(shí)一種雜質(zhì)有幾種不同的處理方法。選擇鍍液處理方法的基本原則：①處理后的鍍液性能和鍍層質(zhì)量要好。②處理費(fèi)用(包括用料和處理時(shí)鍍液的損耗)要少。③處理時(shí)操作簡(jiǎn)便、迅速，用時(shí)短。④不停產(chǎn)處理(連續(xù)處理)。

01、電解法

電解處理是在電鍍槽的陰極上懸掛以去除雜質(zhì)而制作的電解板(又稱假陰極),在通電的情況下，使雜質(zhì)在陰極板上沉積、夾附或還原為無(wú)害的物質(zhì)，有時(shí)電解去除雜質(zhì)也可在陽(yáng)極上進(jìn)行，使某些被氧化的雜質(zhì)在通電的情況下，達(dá)到陽(yáng)極上氧化為氣體逸出或變?yōu)闊o(wú)害的物質(zhì)。電解法適用于去除容易在電極上除去或降低其含量的雜質(zhì)。(1)電解條件的選擇為了提高除去雜質(zhì)的速率，減緩鍍液中主要金屬離子的沉積速率，就要注意選擇電解處理的條件(如：電流密度、溫度、pH值、攪拌等)。若電解條件選擇恰當(dāng)，就會(huì)起到事半功倍的效果，反之，不但去除雜質(zhì)速率慢、效果差，而且還有可能使溶液中主要金屬離子損失增大，甚至導(dǎo)致鍍液成分的失調(diào)。①電流密度的選擇電解處理時(shí)，電流密度的設(shè)定，原則上要按電鍍時(shí)雜質(zhì)引起不良影響的電流密度范圍，也就是說，在電鍍過程中，若雜質(zhì)的影響表現(xiàn)在低電流密度區(qū)，那么電解處理時(shí)應(yīng)控制在低電流密度下進(jìn)行，假使雜質(zhì)的影響表現(xiàn)在高電流密度區(qū)，則應(yīng)選擇用高電流密度進(jìn)行電解，如果雜質(zhì)在高電流密度區(qū)和低電流密度區(qū)都有影響，那么可先用高電流密度電解處理一段時(shí)間，然后再改用低電流密度電解處理，還可以使用高、低電流密度交替電解處理，直至鍍液恢復(fù)正常。在一般情況下，凡是用低電流密度電解可以去除的雜質(zhì)，為了減少鍍液中主要金屬離子的沉積，一般采用低電流密度電解。在電鍍生產(chǎn)中，多數(shù)雜質(zhì)的影響表現(xiàn)在低電流密度區(qū)，所以通常電解處理的電流密度設(shè)在0.05～0.5A/dm2之間。②溫度和pH值的選擇電解處理時(shí)溫度和pH值的選擇，原則上也是要根據(jù)電鍍時(shí)雜質(zhì)所引起不良影響較大的溫度和pH值范圍。例如，鍍鎳溶液中的銅雜質(zhì)和NO:雜質(zhì)在pH值較低時(shí)的影響較大，所以電解去除鍍鎳溶液中的銅雜質(zhì)和NO?雜質(zhì)時(shí)，應(yīng)選用低pH值進(jìn)行電解，在這樣的條件下，去除雜質(zhì)的速率較快。有些雜質(zhì)在電解過程中會(huì)分解為氣體(如NO在陰極上還原為氮氧化物或氨，Cl-在陽(yáng)極上氧化為Cl?等),這時(shí)就應(yīng)選用高溫電解，使電解過程中形成的氣體揮發(fā)逸出(氣體在溶液中的溶解度，一般隨溫度升高而降低),從而防止形成的氣體溶解于溶液而再污染鍍液。一般情況下，隨著鍍液溫度的升高，電解去除雜質(zhì)的速率增大，所以當(dāng)加溫對(duì)鍍液主要成分沒有影響時(shí)，電解處理宜在加溫下進(jìn)行。但是，具體溫度的設(shè)定值，[敏感詞]由小試驗(yàn)確定。③攪拌的選擇電解處理是將雜質(zhì)在陰極(或陽(yáng)極)的表面上反應(yīng)(或吸附)而被除去，那么如何創(chuàng)造條件，使雜質(zhì)與電極的接觸機(jī)會(huì)增多，以增加反應(yīng)(或吸附)的效果。對(duì)于依靠在電極表面的反應(yīng)而去除雜質(zhì)，使用攪拌，減少濃差，以提高去除雜質(zhì)的效果，據(jù)國(guó)外資料介紹，在電解處理時(shí)用超聲波攪拌鍍液可提高處理效果。對(duì)于依靠電極表面的吸附，在靜電場(chǎng)的作用下，使小顆粒的有機(jī)雜質(zhì)向陰極移動(dòng)吸附于陰極表面，與雜質(zhì)陽(yáng)離子共沉積而去除有機(jī)雜質(zhì)，若使用攪拌，則有機(jī)雜質(zhì)向陰極的移動(dòng)速度會(huì)減慢，有機(jī)雜質(zhì)去除效果會(huì)降低，因此，在電解處理時(shí)要保持鍍液在靜置狀態(tài)，以保證電解處理有機(jī)雜質(zhì)的效果。(2)電解處理的要求①首先要查明有害雜質(zhì)的來(lái)源，電解處理可以去除某些雜質(zhì)，但有時(shí)也會(huì)產(chǎn)生雜質(zhì)。例如若有害雜質(zhì)來(lái)源于不純的陽(yáng)極，電解處理時(shí)仍用這種陽(yáng)極，那么隨著電解過程的進(jìn)行，雜質(zhì)會(huì)越積越多;又如雜質(zhì)來(lái)源于某些化合物在電極上的分解產(chǎn)物，那么電解將使這類分解產(chǎn)物逐漸增多。這樣的電解處理，不但不能凈化鍍液，反而會(huì)不斷加重雜質(zhì)對(duì)鍍液的污染。因此，在電解處理前，要進(jìn)行必要的檢查，預(yù)防處理過程中產(chǎn)生有害雜質(zhì)。②電解處理用的陰極(假陰極)面積要盡可能大：用電解法去除雜質(zhì)，大多是在陰極表面上進(jìn)行的，所以增大陰極面積，可以提高去除雜質(zhì)的效率。同時(shí)，為了在不同的電流密度部位電解去除鍍液中的一種或幾種雜質(zhì)，常將陰極板制成瓦楞形，提高電解處理的效果。但陰極瓦楞形板的凹處不宜太深，以防止電流密度過小而使雜質(zhì)不能在該部位沉積或還原。③電解過程中，要定期刷洗陰極：由于電解處理的時(shí)間一般都比較長(zhǎng)，在長(zhǎng)時(shí)間的電解過程中，陰極上可能會(huì)產(chǎn)生疏松的沉積物，不僅會(huì)影響后續(xù)雜質(zhì)的沉積(或吸附),它的脫落會(huì)重新污染鍍液，所以在電解一段時(shí)間后，應(yīng)將陰極板取出刷洗，或退除陰極板上的沉積層，然后再繼續(xù)電解。④電解處理前，先做小試驗(yàn)確認(rèn)電解處理的效果和時(shí)間：有的雜質(zhì)用電解法很難除去，若盲目地采用電解處理，即使用很長(zhǎng)時(shí)間也不能使鍍層恢復(fù)正常。由于小試驗(yàn)所取的鍍液少，雜質(zhì)的總量也少，往往通入足夠量的電量在不長(zhǎng)的時(shí)間里就能反映出電解處理的效果。例如，取2L有故障的鍍液，掛入2dm2左右的陰極(瓦楞形)板，電流2A,電解4h鍍液基體好轉(zhuǎn)，5h鍍液恢復(fù)正常，則小試驗(yàn)表面：每升有故障的鍍液，通入5A·h電量就能使鍍液恢復(fù)正常。

由此可以估計(jì)，若需要處理的有故障的鍍液為1000L,則需要通過5000A·h左右的電量。假如電解處理時(shí)控制電流為100A,那么約需要電解50h。由于小試驗(yàn)和大槽時(shí)的操作條件不完全相同，因此小試驗(yàn)不能作為大槽電解處理的依據(jù)，只能作為參考。(3)電解處理操作方法電解處理常用的有間歇法和連續(xù)法兩種。間歇法是當(dāng)鍍液被雜質(zhì)污染影響鍍層質(zhì)量時(shí)(或?yàn)榱朔乐闺s質(zhì)積累，采用預(yù)定保養(yǎng)的方法),就停止生產(chǎn)(或不生產(chǎn))來(lái)進(jìn)行電解處理，直至鍍液恢復(fù)正常后再轉(zhuǎn)為正式電鍍生產(chǎn)。連續(xù)法是在電鍍槽旁邊，放置一個(gè)小型的輔助槽，專用于電解去除雜質(zhì)，把需要電解處理的鍍液從電鍍槽抽至輔助槽，同時(shí)在輔助槽上設(shè)置溢流口，使經(jīng)過電解處理的鍍液返回到電鍍槽內(nèi)。連續(xù)法處理鍍液時(shí)，不必停產(chǎn)，此法適用于電鍍過程中雜質(zhì)含量會(huì)逐漸增加的操作。例如，鋅壓鑄件產(chǎn)品鍍鎳，在鍍鎳液中鋅雜質(zhì)不斷積累;光亮硫酸鹽鍍銅后再鍍鎳，鍍鎳液中銅雜質(zhì)不斷積累，假如在這類鍍鎳槽邊設(shè)置一個(gè)輔助槽，進(jìn)行連續(xù)電解，可以抑制銅或鋅雜質(zhì)的積累，起到防患于未然的作用。連續(xù)法只能在雜質(zhì)含量還未上升到影響電鍍產(chǎn)品質(zhì)量時(shí)進(jìn)行。若雜質(zhì)含量已達(dá)到影響鍍層質(zhì)量的限度，那么,先用間歇法把雜質(zhì)的含量降低至允許范圍內(nèi)，然后再轉(zhuǎn)為連續(xù)法進(jìn)行電解。

02、高PH值沉淀法

高pH值沉淀法是用堿調(diào)高鍍液的pH值，使鍍液中的金屬雜質(zhì)生成難溶于水的氫氧化物沉淀，然后再通過電解或沉淀過濾，使金屬雜質(zhì)的含量降低的方法。高pH值沉淀法僅適用于弱酸性的鍍液，如鍍鎳液、銨鹽鍍鋅液和無(wú)銨氯化物鍍鋅液等。調(diào)整pH值時(shí)，應(yīng)根據(jù)鍍液的具體情況，選擇使用合適的堿性物質(zhì)并配制合適的濃度，以保證處理效果，防止造成衍生的隱患。一般情況下，氯化鉀鍍鋅液用5%的KOH溶液調(diào)高pH值;氯化鈉鍍鋅液用5%的NaOH溶液調(diào)高pH值;硫酸鹽鍍鎳液應(yīng)先用NiCO?或CaCO?等碳酸鹽提高pH值至5.5左右，然后再用5%的NaOH或5%的Ba(OH)?溶液調(diào)高到所要求的pH值。用堿提高pH值前，應(yīng)將鍍液加熱至65～70℃,以防止在提高pH值時(shí)生成的氫氧化物形成膠體，使之容易過濾而除去沉淀。

03、難溶鹽沉淀法

難溶鹽沉淀法是向鍍液中加入適當(dāng)?shù)某恋韯?，使之與鍍液中的有害雜質(zhì)生成溶度積較小的難溶鹽沉淀，然后過濾除去。此法應(yīng)用范圍較廣，不僅可以去除金屬雜質(zhì)，還可以除去有害的陰離子。例如，在氰化物鍍液中，用硫化鈉去除鉛雜質(zhì)，用氫氧化鈣或氫氧化鋇去除CO?2?:

在鍍鎳溶液中，用亞鐵[敏感詞]去除銅雜質(zhì);用Fe3?去除PO?3?雜質(zhì)及用鉛鹽去除鉻酸根雜質(zhì)等：

 在鍍鉻溶液中，用Ag?CO?去除Cl?及用BaCO?去除過量的SO?2?:

在氨三乙酸-氯化銨鍍鋅液中，用磷酸鹽去除鐵雜質(zhì)等：

沉淀處理時(shí)，一般應(yīng)將鍍液加熱，以加快沉淀反應(yīng)速率和增大沉淀顆粒，使之易于過濾。在加入沉淀劑時(shí)，若還能與溶液中的主金屬離子生成沉淀，則處理時(shí)應(yīng)強(qiáng)烈攪拌，以促使沉淀劑與雜質(zhì)作用。沉淀劑的加入量不宜太多，有分析條件的企業(yè)應(yīng)先分析雜質(zhì)的含量，然后再按計(jì)算量加入，若無(wú)分析條件的企業(yè)，應(yīng)先通過小槽試驗(yàn)，確認(rèn)處理效果和加入量，然后再在鍍槽中處理，以避免沉淀劑加入太多(或太少),造成處理費(fèi)用增加或達(dá)不到預(yù)期的處理效果。

04、氧化還原法

氧化還原法是利用氧化還原的原理，如鍍液中還原性的雜質(zhì)影響鍍液性能和鍍層質(zhì)量時(shí)，可以選用適當(dāng)?shù)难趸瘎┘尤肴芤海瑢㈦s質(zhì)氧化除掉或氧化為相對(duì)無(wú)害的物質(zhì)，或者氧化成容易用其他方法除去的物質(zhì)。同樣道理，假使鍍液中有氧化性的雜質(zhì)影響鍍液性質(zhì)和鍍層質(zhì)量時(shí)，也可以加入適當(dāng)?shù)倪€原劑，將其還原除掉或還原為相對(duì)無(wú)害的物質(zhì)，或者還原成容易用其他方法除去的物質(zhì)。例如：在堿性鍍錫或氰化物-錫酸鹽電鍍銅-錫合金的鍍液中有二價(jià)錫存在時(shí)，會(huì)使鍍層發(fā)黑或出現(xiàn)毛刺，這時(shí)可用雙氧水將二價(jià)錫氧化為四價(jià)錫，變有害為無(wú)害。在焦磷酸鹽鍍銅液中，有少量氰根存在時(shí)，會(huì)使鍍層粗糙，零件的深凹處呈暗紅色，這也可以加入雙氧水，將它氧化分解除去。在某些電鍍液中，部分有機(jī)雜質(zhì)會(huì)造成鍍液故障，它可以用雙氧水或高錳酸鉀氧化為CO?和H?O,或氧化為容易被活性炭吸附除去的物質(zhì)。鍍液中的Fe2?往往比Fe3?難除去，這可以用雙氧水將Fe2?氧化為Fe3?,然后再用沉淀法將其除去。六價(jià)鉻在大多數(shù)的鍍液中會(huì)降低電流效率，有時(shí)甚至使鍍件的低電流密度區(qū)鍍不上鍍層，危害性較大。在某些情況下，可以用連二亞硫酸鈉(保險(xiǎn)粉)或亞硫酸氫鈉等還原劑將六價(jià)鉻還原成三價(jià)鉻。在某些鍍液中，少量的三價(jià)鉻對(duì)鍍液影響不大，則可以不必除去，但在有些鍍液中三價(jià)鉻也有影響，那就應(yīng)提高鍍液的pH值，使其生成Cr(OH)?沉淀或用其他方法將它除去。各類鍍鋅液或電鍍鋅的合金鍍液中，有銅雜質(zhì)或鉛雜質(zhì)影響時(shí)，可以用鋅粉置換，將它們還原為金屬銅或金屬鉛，然后過濾除去。

Cu2?+Zn==Cu+Zn2?

Pb2?+Zn==Pb+Zn2?

鍍鎳液中的銅雜質(zhì)，也可以用鎳粉(或鎳陽(yáng)極板頭子)在低pH值條件下置換還原為金屬銅而除去。Cu2?+Ni===Cu+Ni2?用氧化還原法處理雜質(zhì)，選用的氧化劑或還原劑必須符合下列要求：①氧化劑或還原劑不能使鍍液成分分解為有害雜質(zhì);②氧化劑或還原劑本身反應(yīng)后的產(chǎn)物必須無(wú)害或容易被去除;③過量的氧化劑或還原劑要易于除去。雙氧水的還原(或氧化)產(chǎn)物是水，而且過量的雙氧水用加熱的方法容易除去，所以一般情況下，大多用雙氧水作為氧化劑，但雙氧水對(duì)氨三乙酸氯化銨鍍鋅液有影響，它與鍍液中的硫脲作用產(chǎn)生有害雜質(zhì)(硫化物),使鍍層發(fā)黑，所以這類鍍液[敏感詞]不用雙氧水處理雜質(zhì)。在某些情況下，由于雙氧水的氧化能力不夠強(qiáng)，不能起到分解有機(jī)雜質(zhì)的作用，需要用更強(qiáng)的氧化劑(高錳酸鉀)進(jìn)行處理。高錳酸鉀在不同的介質(zhì)中，還原的產(chǎn)物是不同的。在強(qiáng)酸性溶液中，還原產(chǎn)物為Mn2?;在弱酸性或中性溶液中，還原產(chǎn)物為MnO?;在強(qiáng)堿性溶液中，還原產(chǎn)物為MnO?2?。其中，MnO?是不溶于水的沉淀物，容易過濾除去，但由于它沉淀時(shí)夾帶一定量的溶液，使溶液損失較多，所以不常用。Mn2?和MnO?2?對(duì)一般鍍液影響不大。不管是哪一種氧化劑或還原劑，對(duì)鍍液是否有影響，在沒有經(jīng)驗(yàn)可證明的情況下，一般都應(yīng)通過試驗(yàn)驗(yàn)證后方能使用。

05、活性炭吸附法

活性炭是由胡桃殼、玉米芯和木材等含碳物質(zhì)炭化后經(jīng)過多種化學(xué)藥品活化而成。它具有巨大的表面積，每克活性炭的表面積大約為500～1500m2,由于它的表面積大，表面能高，所以它對(duì)其他物質(zhì)具有較大的吸附能力。不同的活性炭對(duì)不同物質(zhì)具有不同的吸附能力。試驗(yàn)表明：N型顆?；钚蕴繉?duì)香豆素的分解產(chǎn)物有較好的吸附效果，而粉末的活性炭吸附效果較差。但后者對(duì)1,4-丁炔二醇的分解產(chǎn)物吸附效果較好;又如吡啶類衍生物(E-82整平性鍍鎳光亮劑)在鍍鎳液中使用了一段時(shí)間后，用粉末狀活性炭處理后，鍍層的光亮度提高，光亮范圍擴(kuò)大，可見這種活性炭對(duì)E-82光亮劑的分解產(chǎn)物有較好的吸附效果。相反，若用顆粒狀活性炭處理這類鍍液，處理后鍍層就不光亮，說明顆粒狀的活性炭對(duì)光亮劑有較強(qiáng)的吸附能力;有的活性炭吸附光亮劑的分解產(chǎn)物，而對(duì)光亮劑本身基本不吸附或很少吸附，由此可見，活性炭的吸附，在某些情況下不是有選擇性的，目前已有多種活性炭針對(duì)性地應(yīng)用于某些光亮鍍液，有些活性炭吸附或較多地吸附光亮劑的分解產(chǎn)物，而對(duì)光亮劑不吸附或較少吸附，所以常在連續(xù)過濾的過濾機(jī)內(nèi)添加一定量的活性炭，通過連續(xù)過濾，不斷除去光亮劑和其他有機(jī)添加劑的分解產(chǎn)物，過濾機(jī)內(nèi)使用一段時(shí)間后，再更換新的活性炭，以使鍍液中光亮劑分解產(chǎn)物的含量不至于過高，從而保證電鍍產(chǎn)品的質(zhì)量。活性炭是一種固體吸附劑，它對(duì)氣體、液體和固體顆粒(吸附質(zhì))都有一定的吸附能力，在吸附質(zhì)被活性炭吸附的同時(shí)，也存在著吸附質(zhì)脫離活性炭表面的相反過程——解吸，吸附與解吸幾乎是同時(shí)進(jìn)行的。當(dāng)活性炭表面有吸附力的點(diǎn)完全被吸附質(zhì)占據(jù)時(shí)，即達(dá)吸附飽和，此時(shí)吸附與解吸的速度相等，即達(dá)到動(dòng)態(tài)平衡，在吸附達(dá)飽和后，即使再延長(zhǎng)時(shí)間，吸附量再也不能提高，因此，在鍍液處理時(shí)，活性炭長(zhǎng)時(shí)間吸附(或沉淀過夜),其吸附效果是不佳的?；钚蕴康奈竭^程是放熱的，在低溫下，活性炭吸附雜質(zhì)的量多，但在電鍍液的一般處理時(shí)，常在加溫下操作，主要是為了使活性炭易于潤(rùn)濕和分散，實(shí)際上，低溫有利于吸附，高溫加速解吸。凈化鍍液時(shí)，活性炭的用量應(yīng)根據(jù)有機(jī)雜質(zhì)的污染程度而定，較少的有機(jī)雜質(zhì)只需用1g/L左右的活性炭即可;較多的有機(jī)雜質(zhì)需用8～10g/L,甚至更多;在一般情況下，可用3～5g/L進(jìn)行處理。在用活性炭處理鍍液時(shí)，應(yīng)注意活性炭的質(zhì)量，防止活性炭中的雜質(zhì)進(jìn)入鍍液，比如，若活性炭中含有鋅雜質(zhì)，處理鍍鎳液后，會(huì)使鍍鎳層發(fā)黑或出現(xiàn)條紋。另外，在過濾除去鍍液中的活性炭時(shí)，一定要把它過濾干凈，以防止小顆粒的活性炭透過濾芯而進(jìn)入鍍液，使鍍層出現(xiàn)粗糙、灰暗、針孔或橘皮狀的鍍層。為了更好地去除有機(jī)雜質(zhì)，在用活性炭處理前，先用氧化劑(雙氧水或高錳酸鉀)進(jìn)行氧化處理，即氧化劑-活性炭聯(lián)合處理，最常用的是雙氧水-活性炭聯(lián)合處理。在實(shí)際操作時(shí)，一定要將過量的雙氧水除掉后再加活性炭，否則，雙氧水是氧化劑，活性炭是還原劑，多余的雙氧水與活性炭發(fā)生氧化還原反應(yīng)(2H?O?+C==2H?O+CO?↑),另外由于雙氧水會(huì)分解出O?,堵塞活性炭有吸附力的細(xì)孔，降低活性炭的吸附能力，因此，在加入活性炭前，[敏感詞]先檢驗(yàn)鍍液中是否還有過剩的雙氧水存在，檢驗(yàn)方法如下：①稱5gKI溶解于100mL水中，加入5g可溶性的淀粉，加熱至溶解;②吸1滴鍍液滴在干凈的濾紙上;③吸2滴碘化鉀-淀粉溶液滴在濾紙上沾有鍍液的部位;④觀察顏色：假使在5s內(nèi)出現(xiàn)藍(lán)色，表明有殘留的雙氧水存在(碘化鉀-淀粉溶液是不穩(wěn)定的，[敏感詞]現(xiàn)配現(xiàn)用)?；钚蕴康奈竭^程是比較快的，大多數(shù)的有機(jī)雜質(zhì)在開始接觸的幾分鐘內(nèi)就吸附了，因此，處理時(shí)一般只要攪拌30min左右即可。在實(shí)際操作時(shí)，一般將活性炭調(diào)成糊狀，以提高活性炭的潤(rùn)濕性和防止活性炭粉飛揚(yáng)而污染其他槽液，然后再分三次(每次間隔10min)加入，保證活性炭的吸附效果?；钚蕴课椒ǔ藦?qiáng)氧化性的鍍鉻液不能使用外，其他幾乎所有的鍍液都可應(yīng)用。

06、離子交換法

離子交換法是利用離子交換樹脂上有一種可交換的離子，與溶液中的離子進(jìn)行交換。當(dāng)需要交換除去溶液中的陽(yáng)離子時(shí)，就采用陽(yáng)離子交換樹脂;當(dāng)需要交換除去溶液中的陰離子時(shí)，就采用陰離子交換樹脂。從理論上講，電鍍?nèi)芤褐械碾x子型雜質(zhì)，都可以用離子交換法去除，但是遺憾的是，由于離子交換去除雜質(zhì)的同時(shí)，鍍液中的主鹽金屬離子或其他主要成分，也可能與離子交換樹脂上的離子進(jìn)行交換而除去，這樣，就制約了離子交換法在鍍液凈化方面的應(yīng)用。一般而言，凡是鍍液中的雜質(zhì)離子與主要成分離子的電性不相同時(shí)，那么這類雜質(zhì)，原則上可以用離子交換法進(jìn)行去除。例如，鍍鉻液中的Fe3?、Ni2?、Cu2?等雜質(zhì)，與主要成分CrO?2?、CrO?2?和SO?2?的電性不同，所以可以用陽(yáng)離子交換樹脂進(jìn)行處理。由于鍍鉻液是強(qiáng)氧化性的，在進(jìn)行離子交換操作時(shí)，選用的樹脂要具有一定的抗氧化性，一般的樹脂經(jīng)不起高濃度鍍鉻液的氧化，所以，通常需要將高濃度的鍍鉻液稀釋后進(jìn)行離子交換。例如，用732#強(qiáng)酸性陽(yáng)離子交換樹脂去除鍍鉻液中的雜質(zhì)，需要將鍍鉻液稀釋至CrO?含量小于130g/L后才能使用。雖然用732#陽(yáng)離子交換樹脂去除鍍鉻液中的金屬雜質(zhì)的效果很好，但由于處理后的鍍鉻液還需濃縮至工藝要求，另外，三價(jià)鉻也同時(shí)被除去(還需補(bǔ)加至工藝規(guī)范),操作較為麻煩，所以應(yīng)用較少。

07、掩蔽劑法

掩蔽劑法是向鍍液中加入一種對(duì)雜質(zhì)起掩蔽作用的掩蔽劑，從而消除有害雜質(zhì)的影響。這種方法既不需要過濾鍍液，又不需要其他處理設(shè)備，較簡(jiǎn)便易行。如氨三乙酸氯化銨鍍鋅液中有少量銅雜質(zhì)存在時(shí)，會(huì)使鍍鋅層的鈍化膜光澤不好，這時(shí)只要適當(dāng)提高鍍鋅液中硫脲的含量，少量銅雜質(zhì)就被掩蔽，不良現(xiàn)象就會(huì)消失;硫酸鹽鍍銅液中有少量砷和銻存在時(shí)，會(huì)使鍍層發(fā)暗，表面略有粗糙，這時(shí)只要加入適量的明膠和單寧酸，就能掩蔽這些有害雜質(zhì);焦磷酸鹽鍍銅液中，若有少量鐵雜質(zhì)影響鍍層質(zhì)量時(shí)，可加入適量的檸檬酸鹽進(jìn)行掩蔽;光亮鍍鎳液中有少量的鋅雜質(zhì)存在，會(huì)使工件低電流密度區(qū)的鍍層灰暗甚至發(fā)黑，這時(shí)只要加入適量的NT掩蔽劑，攪拌片刻，有害影響即消失。這些掩蔽劑既不與有害雜質(zhì)生成沉淀，也不需要用活性炭等其他方法做進(jìn)一步的處理，是凈化鍍液最簡(jiǎn)便的方法。

以上便是因鍍液雜質(zhì)引起電鍍故障的7種處理方案——掩蔽劑法、掩蔽劑法、活性炭吸附法、氧化還原法等，可根據(jù)自己的需求選擇，上文希望能幫助到大家，僅供行業(yè)借鑒。

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