常用凈化鍍液的方法有哪些?
發(fā)布日期:2023-03-16
凈化鍍液是電鍍故障處理的重要措施,主要目的是除去擾亂電鍍工藝的一些雜質(zhì)成分。根據(jù)雜質(zhì)的種類、濃度及狀態(tài)的不同,可以采取不同方法,或者將這些方法聯(lián)合起來使用。
①電解法。電解處理是在電解槽陰極上吊掛以去除雜質(zhì)而制作的電解板(又稱假陰極)。在通電的情況下,使雜質(zhì)在陰極電解板上沉積、夾附或還原成為無害的物質(zhì)。在少數(shù)情況下電解去除雜質(zhì)也可在陽極上進行,使某些被氧化的雜質(zhì)在通電的情況下,到達陽極上氧化為氣體逸出或變?yōu)橄鄬o害的物質(zhì)。電解法適用于去除容易在電極上除去或降低其含量的雜質(zhì)。
②堿化沉淀法。堿化沉淀法是提高鍍液的pH值,使鍍液中的金屬雜質(zhì)生成難溶于水的氫氧化物沉淀,所以又叫高pH值沉淀法,僅適用于弱酸性的鍍液,如鍍鎳、銨鹽鍍鋅和無銨氯化物鍍鋅液等。在向鍍液中加堿提高pH值前,應(yīng)將鍍液加熱至65~70℃,以防止在提高pH值時生成的氫氧化物形成膠體,否則無法過濾而除去沉淀。
③難溶鹽沉淀法。與堿化沉淀法類似,難溶鹽沉淀法中向鍍液中加入適當(dāng)?shù)某恋韯怪c鍍液中的有害雜質(zhì)生成難溶鹽沉淀,然后過濾除去。難溶鹽沉淀法應(yīng)用范圍較廣,它可以去除金屬雜質(zhì),也可以去除有害的陰離子。沉淀處理時,一般應(yīng)將鍍液加熱,以加快沉淀反應(yīng)速度,增大沉淀顆粒,使之易于過濾。
④氧化還原法。利用氧化還原的原理,針對鍍液中還原性的雜質(zhì),選用適當(dāng)?shù)难趸瘎┘尤肴芤海瑢㈦s質(zhì)氧化除掉或氧化為相對無害的物質(zhì),或者氧化成容易用其他方法除去的物質(zhì);同樣針對鍍液中氧化性的雜質(zhì),加入適當(dāng)?shù)倪€原劑,將其還原除掉或還原為相.對無害的物質(zhì),或者還原成容易用其他方法除去的物質(zhì)。
⑤活性炭吸附法?;钚蕴康谋砻娣e大、表面能高,所以它對其他物質(zhì)具有較大的吸附能力,因此,實踐中通常采用活性炭處理鍍液中的易被吸附的有機物雜質(zhì)。
⑥離子交換法。離子交換技術(shù)是利用離子交換樹脂上有一種可交換的離子,與溶液中的陽離子進行交換。當(dāng)需要交換除去溶液中的陽離子時,就采用陽離子交換樹脂,反之,用陰離子交換樹脂。從理論上講,電鍍?nèi)芤褐械碾x子型雜質(zhì),都可以用離子交換法去除,但是,由于離子交換法除雜質(zhì)的同時,溶液中的主金屬離子或其他主要成分,也有可能與離子交換樹脂上的離子進行交換而除去,這樣,就限制了離子交換法在凈化鍍液方面的應(yīng)用。鍍液中的雜質(zhì)離子與主要成分離子的電性不同時,原則上可以用離子交換法進行去除。
⑦掩蔽法。掩蔽法是向鍍液中加入一種對雜質(zhì)起掩蔽作用的掩蔽劑,從而消除雜質(zhì)有害影響的方法。如氨三乙酸一氯化銨鍍鋅液中有少量銅雜質(zhì)存在時,只要適當(dāng)提高鍍鋅液中硫脲的含量,少量銅雜質(zhì)就被掩蔽。掩蔽劑既不與有害雜質(zhì)生成沉淀,又不需要用活性炭等其他方法作進一步的處理,所以是凈化鍍液最簡便的方法。
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