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鋁的氧化膜是怎樣生成的?

發(fā)布日期:2023-03-03

從硫酸溶液氧化時可以看到在陽極附近的溶液區(qū)域中,鋁離子的含量增加,同時有氧氣析出,有氧化膜形成,而陰極上析出氫氣,氧化膜的形成反映兩個步驟同時進行。即氧化膜的電化學成膜過程和化學溶解過程,當然,只有成膜速度大于膜的溶解速度,那么氧化膜的加厚生成才是可能的,由于鋁氧化膜的電阻很大,當它的厚度達到一定限度時,電阻就妨礙了陽極反應的繼續(xù)進行,電流就通不過了,這時,成膜速度等于零而溶解過程并沒有停止,所以就會出現(xiàn)已經形成的氧化膜厚度趨向減薄。

    陽極氧化過程的實質是H+與OH-的放電和接著進行新生態(tài)氧對鋁的氧化,形成A12O3。氧化開始時,陽極上很快地生成一層薄而細密的氧化膜(即緊貼金屬表面的無孔內層),電阻也大,在最初的幾秒鐘里就使電壓急劇升高,電壓升高導致氧化膜局部薄的地方“擊穿”。擊穿的地方膜的溶解加快,出現(xiàn)孔穴,并繼而延伸,為膜的進一步增厚提供條件,而且以孔為中心形成一個個六角形組成了氧化膜的外層。


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