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化學(xué)鍍鎳/金的滲鍍是什么原因,怎么解決?

發(fā)布日期:2024-09-12


網(wǎng)站寄語:化學(xué)鍍鎳化學(xué)鍍金出現(xiàn)滲鍍的問題,是在化學(xué)鍍過程中比較常見的問題,那么針對這些化學(xué)鍍滲鍍問題該怎么解決呢?我們不妨來看看今日分享的文章。以下通過了具體的實驗分析給出了解決方案。原標(biāo)題:化學(xué)鍍鎳/金的滲鍍原因及解決方案

在化學(xué)鍍鎳/金(electrolessNickel/immersionGold,ENIG)制程中產(chǎn)生滲鍍是一種常見現(xiàn)象,一般可通過調(diào)整ENIG的各項參數(shù)得到解決或改善。本公司出現(xiàn)的滲鍍現(xiàn)象與以往有所不同,調(diào)整ENIG各項參數(shù)后,改善不明顯。IC連接盤邊緣的滲鍍現(xiàn)象如圖1所示。

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圖1 IC連接盤邊緣滲鍍現(xiàn)象

過程分析及實驗方案

解決滲鍍的常規(guī)方法一般是調(diào)整活化或鎳缸,調(diào)整活化參數(shù)后的滲鍍情況如表1所示。

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表1  調(diào)整活化參數(shù)后滲鍍

由表1可知,調(diào)整活化濃度時間及溫度、調(diào)整鎳缸的溫度濃度負載及pH值等后,改善效果均不明顯。從“人機物法環(huán)”5個方面逐一進行排查,排除了沉鎳金工序本身的問題,因此懷疑是否來料有異常,使用放大鏡觀察確認,未發(fā)現(xiàn)有殘銅或蝕刻不盡的現(xiàn)象。又因為本批次滲鍍不良板主要集中在多層板,隨后鎖定銅箔及半固化材料(prepreg,PP),通過對不同批次的PP及銅箔與其他廠家進行交叉驗證,發(fā)現(xiàn)有部分批次的銅箔出現(xiàn)滲鍍情況,如表2所示。

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由表2可知,滲鍍原因與PP關(guān)聯(lián)較低,問題可能出現(xiàn)在5月份批次的銅箔中。銅箔導(dǎo)致滲鍍問題及產(chǎn)生機理、不同批次的銅箔主要差異,可從以下幾個方面進行分析:①板面是否殘留其他雜質(zhì);②銅箔毛面粗糙度是否異常;③銅箔毛面的銅牙是否有異常。

關(guān)于第①點,本文對蝕刻后ENIGd的前與后板子進行了掃描電鏡/能譜儀(scanningelectronicmicroscopy/energydispersivespectrometer,SEM/EDS)分析,發(fā)現(xiàn)在基材區(qū)有微量銅元素存在,這種銅元素并非由蝕刻不盡產(chǎn)生,重新再過一次蝕刻依然會有滲鍍現(xiàn)象,初步判斷可能是銅牙或銅粉陷在基材中無法去除。

關(guān)于第②及第③點,使用粗糙度測試儀,測試銅箔毛面及蝕刻后基材表面的粗糙度,如表3所示。

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表3 不同銅箔粗糙度

由表3可知,18μm滲鍍與未滲鍍的粗糙度數(shù)值差異不大;35μm及50μm粗糙度均大于18μm,但均無滲鍍現(xiàn)象,說明銅箔粗糙度與沉金滲鍍關(guān)聯(lián)性較小。

對比滲鍍及未滲鍍的切片,未滲鍍的板子銅牙長度最深為4.05μm,滲鍍的板子銅牙長度最深為5.37μm;另外在高倍顯微鏡下,發(fā)現(xiàn)有6~10μm的蜂窩狀空洞,說明滲鍍的板子比未滲鍍的板子空洞更加密集。

綜上所述,此次滲鍍的原因可能為銅箔毛面處理不良,導(dǎo)致基材區(qū)殘留銅元素,銅牙較深及空洞較密集的部分易產(chǎn)生滲鍍。

高倍顯微鏡下的基材區(qū)蜂窩狀空洞如圖2所示。部分不規(guī)則的空洞深陷在基材區(qū),藥水滲進去后不易清洗,可能產(chǎn)生殘留,造成滲鍍。

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圖2 基材區(qū)的蜂窩狀空洞

藥水殘留造成的滲鍍,以2種方案進行驗證:

(1)如果是ENIG過程中產(chǎn)生藥水殘留導(dǎo)致滲鍍,則加強水洗,特別是活化后的水洗。但通過調(diào)整活化后酸洗及水洗時間,以及調(diào)整酸洗濃度后,效果均不明顯,滲鍍依然較為嚴(yán)重。

(2)如果是ENIG前藥水殘留產(chǎn)生的滲鍍,為排除阻焊工序的影響,從蝕刻后取板直接清洗做ENIG,再通過以下步驟加以驗證:①過除油及水平微蝕;②通過離子測試機清洗;③過退膜(3~5%NaOH)處理1~2min。其中①和②幾乎無效,③效果[敏感詞],ENIG后無滲鍍現(xiàn)象。

以上測試在阻焊返工板中及負片流程中也得到驗證,板經(jīng)阻焊返洗(堿液)后,ENIG再未出現(xiàn)滲鍍現(xiàn)象。將③方案應(yīng)用到實際生產(chǎn)中,多層板在蝕刻后先經(jīng)過退膜處理1~2min,然后再做阻焊,即可杜絕滲鍍現(xiàn)象。另外,經(jīng)NaOH處理后,滲鍍問題同樣得到改善,驗證過程如下:板子過NaOH浸泡前后,對比基材表面EDS/SEM的變化,發(fā)現(xiàn)表面銅元素消失或含量下降。由此可以判斷經(jīng)過NaOH處理可以起到咬蝕及清洗作用。

結(jié)語

本次出現(xiàn)沉鎳金滲鍍問題,原因主要為銅箔毛面出現(xiàn)異常。通過NaOH清洗,咬蝕基材,可去除陷在PP中的銅粉或銅粒;另外,也可在一定程度上改善或整平部分蜂窩狀的空洞,減少藥水的殘留。使用NaOH清洗的方法也為解決沉鎳金滲鍍問題提供了與以往不同的思路,除了使用堿洗,還可使用其他方法處理,如等離子清洗等。

同時要求銅箔供應(yīng)商整改,管控銅箔粗糙度及銅牙的穩(wěn)定性。截至目前,新批次的銅箔無須經(jīng)NaOH處理,并再未出現(xiàn)滲鍍現(xiàn)象。

PS:本篇文章:原標(biāo)題:化學(xué)鍍鎳/金的滲鍍原因及解決方案,轉(zhuǎn)載自作者:陳紅華,來源:《印制電路信息》,為解決化學(xué)鍍鎳,化學(xué)鍍的滲鍍,通過使用NaOH清洗的方法也為解決沉鎳金滲鍍問題,提供了與以往不同的思路。

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