堿性鋅酸鹽鍍鋅存在的一個(gè)主要缺點(diǎn)是主鹽濃度低和不能鍍得太厚。隨著電鍍添加劑技術(shù)的進(jìn)步，這個(gè)問題已經(jīng)獲得解決。這種新工藝的一個(gè)典型例子是武漢風(fēng)帆電鍍公司開發(fā)的ZN-500鍍鋅工藝。

工藝配方和操作條件:

氧化鋅                              6.8~23.4(滾鍍9~30)g/L

氫氧化鈉                     75~ 150(滾鍍90~ 150)g / L

ZN一500光亮劑                                15~ 20mL / L

ZN-500走位劑                       3~5(滾鍍5~10)mL/L

溫度                                                        18~ 50°C

陰極電流密度                                     0.5~6A/dm2

陽(yáng)極                                            99. 9%以上純鋅板

這一新工藝的顯著特點(diǎn)如下。

(1)主鹽濃度寬。氧化鋅的含量在7~24g/ L的范圍都可以工作，鍍液的穩(wěn)定性提高。

(2)適合于滾鍍。 這時(shí)的主鹽濃度可以提高至9~30g/ L，管理方便。

(3)鍍層脆性小。經(jīng)過檢測(cè)，鍍層的厚度在31μm以上仍具有韌性而不發(fā)脆，經(jīng)180℃去氫也不會(huì)起泡。

(4)工作溫度范圍較寬。在50°C時(shí)也能獲得光亮鍍層。

(5)具有良好的低區(qū)性能和高分散能力。適合于對(duì)形狀復(fù)雜的零件掛鍍加工。

(6)鍍后鈍化性能良好?？梢约嫒荻喾N鈍化工藝，且對(duì)金屬雜質(zhì)如鈣、鎂、鉛、鎘、鐵、鉻等都有很好的容忍性。
很顯然，這種鍍鋅工藝已經(jīng)克服了以往無(wú)氰鍍鋅存在的缺點(diǎn)，使這一工藝與氰化物鍍鋅一樣可以適合多種鍍鋅產(chǎn)品的需要。

這種新工藝的優(yōu)點(diǎn)還在于它與其他類堿性無(wú)氰鍍鋅光亮劑是基本兼容的，只是停止加入原來(lái)的光亮劑，然后通過霍爾槽試驗(yàn)來(lái)確定應(yīng)該補(bǔ)加的ZN- 500的量。初始添加量控制在0.25mL / L,

再慢慢加到正常工藝范圍并補(bǔ)入走位劑。在雜質(zhì)較多時(shí)，還應(yīng)加入ZN一500配套的鍍液凈化劑。當(dāng)對(duì)水質(zhì)純度不確定時(shí)，可以在新配槽時(shí)加入相應(yīng)的除雜劑和水質(zhì)穩(wěn)定劑各1mL / L。

    鍍前處理仍應(yīng)該嚴(yán)格按照工藝要求進(jìn)行比如堿性除油、鹽酸除銹和鍍前活化等。如果采用鍍前的苛性鈉陽(yáng)極電解，可不經(jīng)水洗直接入鍍槽。鈍化可以適用各種工藝，鈍化前應(yīng)在0. 3% ~0.5%的稀硝酸中出光。

    對(duì)鍍液的維護(hù)可以從兩個(gè)方面著手，一方面是通過定期分析鍍液成分，使主鹽和絡(luò)合劑保持在工藝規(guī)定的范圍，另一方面要記錄鍍槽工作時(shí)所通過的電量(安●時(shí))，用作補(bǔ)加添加劑或光亮劑的依據(jù)之一，重點(diǎn)是要通過霍爾槽試驗(yàn)檢測(cè)鍍液是否處在正常工作的范圍。


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